FÖRSÖRJNING, TEKNIK OCH UTRUSTNING FÖR ELEKTRONIKINDUSTRIN
Ladda upp ditt företag
Vi höjer kvaliteten på våra elektronikmaterial för att hjälpa dig att göra en bättre produkt. Vi levererar produkter till halvledar-, plattskärms-, LED- och solenergimarknaden och tillhandahåller det material du behöver för att hålla världen uppkopplad. Vi på Nippon Gases mäter nämligen vår framgång utifrån hur väl vi hjälper dig att lyckas.
Läs mer om hur vi betjänar liknande branscher.
INDUSTRIGASER FÖR ELEKTRONIKINDUSTRIN
Nitrogen
Nitrogen används ofta i kylnings- och reningstillämpningar och är en avgörande del i tillverkningen av elektronik och halvledare.
Argon
Argon är med sin höga stabilitet och extremt låga reaktivitet en viktig gas inom tillverkning av solceller och halvledare.
Hydrogen
Hydrogen används av en mängd olika elektroniktillverkare och fungerar som bärgas för tunnfilmsdeponering samt som reduktant vid masugnsbehandlingar.
Helium
Helium är viktigt på marknaden för plattskärmar och används som kylmedel och är även en viktig komponent för de kontrollerade miljöer som krävs för att bygga halvledarenheter.
Silan
Silan är ett viktigt råmaterial för tunnfilmsdeponering av amorfa filmer och polysilikonfilmer i halvledar-, skärm- och solenergibranschen.
Ammoniak
Ammoniak är den vanligaste nitrogenperkursorn för tillväxten av nitridbaserade tunna filmer och epitaxiella kristaller. Ultrahög renhet är avgörande för epitaxiella kristalltillämpningar i LED-branschen.
Koldioxid
Koldioxid med hög renhet hjälper till att avlägsna mycket små partiklar i reningstillämpningar och hjälper till att förhindra kollaps av fotoresistens under torkning för kritiska halvledarskikt.
Diklorsilan
Diklorosilan möjliggör tillväxten av tunna filmer i kristallint kisel vid låga temperaturer, med högre tillväxthastighet än silan inom halvledar- och solenergibranschen.
Triklorsilan
Triklorosilan möjliggör tillväxten av tunna filmer i kristallint kisel vid låga temperaturer, med högre tillväxthastighet än silan inom halvledar- och solenergibranschen.
Fosfin
Fosfin används som jonimplanteringskälla för dopning av n-typ inom halvledar- och solcellenergibranschen samt som CVD-källa för dopning av n-typ inom halvledar- och skärmtillverkning.
Arsin
Arsin används som jonimplanteringskälla för dopning av n-typ i halvledartillverkning. Det är också ett råmaterial för epitaxiell tillväxt av kristallina celler i halvledare och solceller.
INDUSTRIELLA TJÄNSTER FÖR ELEKTRONIKINDUSTRIN
Vi erbjuder inte bara elektonikgaser och tillämpningar för elektronikbranschen. Vi hjälper dig att optimera varje steg i processen. Vi erbjuder hjälp med såväl rådgivning som implementering och användning och vårt utbud av industriella tjänster hjälper dig att övervaka och hantera gasförsörjningen så att du kan satsa på att vara så produktiv och effektiv som möjligt.